Pat
J-GLOBAL ID:200903004315215022
冷却ゲルシート
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003140826
Publication number (International publication number):2004041712
Application date: May. 19, 2003
Publication date: Feb. 12, 2004
Summary:
【課題】長時間の冷却効果があり、低温状態でも十分な柔軟性を保ち冷凍庫からとりだしてもそのまま使用できる冷却を提供する。【解決手段】カルボキシル基及び/又はスルホン酸基を有する構成単位(a)を必須構成単位とする高分子(1)において、該構成単位の割合が該(1)に基づいて20〜100重量%であり、且つ該酸基のプロトンの30〜100モル%が第4級アンモニウムカチオン(I)、第3級ホスホニウムカチオン(II)、第4級ホスホニウムカチオン(III)、第3級オキソニウムカチオン(IV)、アルキルピリジニウムカチオン(V)からなる群から選ばれる1種又は2種以上のオニウムカチオンで置換されてなる高分子(1)の架橋体(A)及びアルコール系溶媒(B)からなるゲル層、及び支持体からなる冷却ゲルシートである。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
カルボキシル基及び/又はスルホン酸基を有する構成単位(a)を必須構成単位とする高分子(1)において、該構成単位の割合が該(1)に基づいて20〜100重量%であり、且つ該酸基のプロトンの30〜100モル%が第4級アンモニウムカチオン(I)、第3級ホスホニウムカチオン(II)、第4級ホスホニウムカチオン(III)、第3級オキソニウムカチオン(IV)、アルキルピリジニウムカチオン(V)からなる群から選ばれる1種又は2種以上のオニウムカチオンで置換されてなる高分子(1)の架橋体(A)及びアルコール系溶媒(B)からなるゲル層、及び支持体からなる冷却ゲルシート。
IPC (1):
FI (2):
A61F7/10 311A
, A61F7/10 330A
F-Term (9):
4C099AA02
, 4C099CA04
, 4C099EA08
, 4C099GA02
, 4C099HA05
, 4C099LA04
, 4C099LA05
, 4C099LA08
, 4C099LA14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
特開平4-293951
-
ゲル状組成物およびその構造体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-034253
Applicant:株式会社クラレ
-
ゲル状組成物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-040140
Applicant:株式会社クラレ
-
水性ゲル積層体ロールの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-127548
Applicant:リンテック株式会社
-
吸液材料用組成物、吸液材料成形体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-146876
Applicant:昭和電工株式会社
-
含水ゲル組成物を有する粘着性アイマスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-182443
Applicant:ライオン株式会社
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Cited by examiner (6)
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特開平4-293951
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ゲル状組成物およびその構造体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-034253
Applicant:株式会社クラレ
-
ゲル状組成物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-040140
Applicant:株式会社クラレ
-
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-127548
Applicant:リンテック株式会社
-
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Application number:特願平7-146876
Applicant:昭和電工株式会社
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含水ゲル組成物を有する粘着性アイマスク
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Application number:特願2000-182443
Applicant:ライオン株式会社
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