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J-GLOBAL ID：200903004323886840

電子ビーム描画方法および装置

Inventor： 早田 康成 ,  太田 洋也 ,  谷本 明佳 ,  村木 真人
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  キヤノン株式会社
Agent (1)： 小川 勝男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001053412
Publication number (International publication number)：2002260981
Application date： Feb. 28, 2001
Publication date： Sep. 13, 2002
Summary：

【要約】【目的】 一括図形照射法の制約要因を低減し電子ビーム描画装置の高速化を図る。【構成】 個々にブランキングが可能な複数の電子ビームで、大きさが可変の領域内をラスター走査する工程を、領域の大きさに対応した間隔で逐次繰り返すことによって試料上に所望のパターンを描画する。

Claim 1：

個々にブランキングが可能な複数の電子ビームで複数の微小領域を同時に走査するとともに微小領域の数あるいは大きさを所望のパターンに応じて制御して複数の微小領域により形成される全体としての大きさが可変の領域内を走査する工程を、前記可変の領域の大きさに対応した間隔で逐次繰り返すことによって試料上に前記パターンを描画する電子ビーム描画方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504

FI (5)：

G03F 1/16 Z ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 W

F-Term (13)：

2H095BA09 ,  2H095BB10 ,  2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5F056AA06 ,  5F056AA12 ,  5F056AA13 ,  5F056AA33 ,  5F056CA02 ,  5F056CA05 ,  5F056CA22 ,  5F056CB05