Pat
J-GLOBAL ID:200903004332853946

ブラックマトリックス基板およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志村 浩
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994047814
Publication number (International publication number):1995234314
Application date: Feb. 22, 1994
Publication date: Sep. 05, 1995
Summary:
【要約】【目的】 液状のカラーフィルタ材料を転写するのに適した「ぬれ性」をもったブラックマトリックス基板を提供する。【構成】 ガラス基板100上に、画素の境界領域に対応するフレーム状パターンをもった遮光性のブラックマトリックス層10が形成される。このブラックマトリックス層10は、Cr層11と、このCr層の少なくとも上面に形成されたクロムの弗素化合物層12と、によって構成されている。弗素化合物層12は、Cr層11に比べて液状のカラーフィルタ材料121を転写するのにより適した「ぬれ性」を有し、接触角θ=72°程度が得られる。
Claim (excerpt):
基板上に画素の境界領域に対応するパターンをもった遮光性のブラックマトリックス層を形成してなるブラックマトリックス基板において、前記ブラックマトリックス層の少なくとも上面部分をクロムの弗素化合物層によって構成したことを特徴とするブラックマトリックス基板。
IPC (2):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
Show all

Return to Previous Page