真空処理装置のための駆動機構

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004233658
Publication number (International publication number)：2005336596
Application date： Aug. 10, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：

【課題】真空処理装置のための駆動機構であって、定位置の支持柱1、支持柱に配置されたモータ4、軸線A-Aを中心として回転可能な伝動装置室6、伝動装置室の壁を貫通していて所属のサブストレートホルダーに作用結合している制御ロッド9を備えている形式のものにおいて、面積の大きなサブストレートもサブストレートホルダーに固定しない状態でかつ衝撃を受けることなく真空処理装置を通して案内されるようにする。【解決手段】モータが定位置の支承ケーシング5に結合されており、支承ケーシング内に支持柱に対して同心的に、放射状に配置された複数のアーム14から成る回転可能な装置を支承してあり、アームが二腕の各アングルレバー16の1つの端部にヒンジ的に結合され、各アングルレバーが枢着ピン17を有し、アングルレバーの別の端部が制御ロッド9にヒンジ的に結合されており、枢着ピンが定位置の制御カム11内に案内されており、制御カムのカム軌道経路が制御ロッドの半径方向運動を規定している。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

真空処理装置のための駆動機構であって、真空処理装置内を複数のサブストレートホルダー(52)が、軸線(A-A)を中心とした循環軌道に沿って入口ロックゲート(32)から少なくとも1つの処理室(37,40,41)を経て出口ロックゲート(34)へ搬送可能であり、循環軌道の中心部に定位置の支持柱(1)が配置されており、支持柱に伝動装置室(6)が回転可能に支承してあり、伝動装置室(6)の外側にサブストレートホルダー(52)の回転運動及び半径方向移動のための制御ロッド(9)が配置されており、回転可能な伝動装置室(6)内で支持柱(1)にモータ(4)を位置不動に取り付け、かつ制御ロッド(9)のための回転可能な移動駆動部を配置してあり、制御ロッドが伝動装置室(6)の壁を貫通していて、所属のサブストレートホルダー(52)に作用結合している形式のものにおいて、モータ(4)が定位置の支承ケーシング(5)に結合されており、支承ケーシング内に支持柱(1)に対して同心的に、放射状に配置された複数のアーム(14)から成る回転可能な装置が支承されており、回転可能な装置のアーム(14)が二腕の各アングルレバー(16)の1つの端部にヒンジ的に結合されており、各アングルレバーがそれぞれ少なくとも1つの枢着ピン(17)を有しており、アングルレバー(16)の別の端部がそれぞれ制御ロッド(9)にヒンジ的に結合されており、アングルレバー(16)の枢着ピン(17)が定位置の1つの制御カム(11)内に案内されており、制御カム(11)のカム軌道経路が制御ロッド(9)の半径方向運動を規定していることを特徴とする、真空処理装置のための駆動機構。

IPC (2)：

C23C14/50 , C23C16/44

FI (3)：

C23C14/50 G , C23C14/50 K , C23C16/44 G

F-Term (5)：

4K029JA02 , 4K029KA01 , 4K030GA04 , 4K030GA05 , 4K030GA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

ヨーロッパ特許第0136562B1号明細書
成膜方法およびスパッター装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-335973 Applicant：信越化学工業株式会社
薄膜を被着するための真空処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-097027 Applicant：ライボルトシステムズゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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