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J-GLOBAL ID：200903004379285687

露光用マスク及び半導体装置の製造方法

Inventor： 長谷川 秀明
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (2)： 高橋 敬四郎 ,  来山 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002322860
Publication number (International publication number)：2004157324
Application date： Nov. 06, 2002
Publication date： Jun. 03, 2004
Summary：

【課題】上記露光用マスクを用いて半導体装置を製造する方法を提供する。【解決手段】転写すべきパターンの原画に基づいて、基板の表面上に、少なくとも1箇所に白欠陥が存在する転写パターンが形成されている。少なくとも一部が転写パターンの白欠陥と重なる凹部が、基板に形成されている。凹部の底面の少なくとも一部の領域上に、露光光を遮光する材料で形成された修正膜が配置されている。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

基板と、 転写すべきパターンの原画に基づいて、前記基板の表面上に形成され、少なくとも1箇所に白欠陥が存在する転写パターンと、 前記基板に設けられ、少なくとも一部が前記転写パターンの白欠陥と重なる凹部と、 前記凹部の底面の少なくとも一部の領域上に配置され、露光光を遮光する材料で形成された修正膜と を有する露光用マスク。

IPC (3)：

G03F1/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (3)：

G03F1/08 W ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502P

F-Term (1)：

2H095BD33