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J-GLOBAL ID：200903004418167280
照射領域モニター付きX線照射装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992043979
Publication number (International publication number)：1993240999
Application date： Feb. 28, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 X線照射装置による試料表面へのX線照射領域を、可視光を用いて容易に、試料の移動を邪魔にしないで観察する装置を得る。【構成】 X線源1aとX線12を集束させる全反射型X線レンズ4との間に、X線12を透過し、可視光線14を反射するX線透過鏡6を傾けて挿入する。X線透過鏡6に対して、X線源1aと光学的に等価の位置に、可視光源10を配置して、試料5表面に照射する共にスポット状に試料5表面に照射するX線12と可視光14の照射を同一形状、同一位置にする。更に、試料5を照射し、X線透過鏡6を反射した可視光14をさらにハーフミラー7にて可視光源軸から分離して、その軸に、可視光二次源位置検出器11を設ける。
Claim (excerpt)：
X線を発生するX線発生装置と、前記X線をその鏡面状態の内面において全反射し、集光する全反射型X線レンズと、前記X線発生装置と前記全反射型X線レンズとの間に、前記X線の光軸に対してその面を傾けて介在し、X線を透過し、可視光線を反射するX線透過鏡と、前記X線透過鏡を反射し、前記全反射型X線レンズにより反射した可視光線が、前記X線の光軸と同軸になるように配置され、且つ前記X線発生装置と前記全反射型X線レンズとのX線光学距離と、前記全反射型X線レンズとの可視光光学距離とが等しく配置された可視光源と、前記全反射型X線レンズと前記可視光源との間に設けられたハーフミラーと、前記可視光と前記ハーフミラーとの光軸に対して他方の光軸に可視光二次元位置検出装置を設けたことを特徴とする照射領域モニター付きX線照射装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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