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J-GLOBAL ID：200903004420775408

レーザ干渉変位測定装置

Inventor： 宮澤 君男 ,  種田 修一 ,  姉崎 誠
Applicant, Patent owner： ユニオンツール株式会社
Agent (1)： 大久保 操 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993350644
Publication number (International publication number)：1995198317
Application date： Dec. 29, 1993
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【目的】 λ/4波長板などを用いることなく、単一波長のレーザ光によって位相の異なる2つの干渉光を得る。【構成】 ビームスプリッタ36は、2つの直角プリズムを光学薄膜(コーティング膜、蒸着膜)を介して組み合わせてあり、相互に位相の異なる第1干渉光48と第2干渉光50とを発生する。第1、第2光センサ56、58は、各干渉光の強度変化を検出し、波形整形器60、62が矩形波に整形して方向判別器64と波形分割回路66とに入力する。方向判別器64は、波形整形器60、62の出力信号の位相関係によって移動鏡44の移動方向を判別する。計数回路68は、方向判別器64の出力信号によって波形分割回路66の出力パルスをカウントアップまたはカウントダウンし、距離演算回路70が計数回路68の計数値に基づいて、移動鏡44の基準位置からの距離を求める。

Claim (excerpt)：

単一波長レーザ光を出射するレーザ光源と、このレーザ光源が出射したレーザ光を2つの方向に分割するビームスプリッタと、このビームスプリッタが分割した一方の分割ビームが入射する固定反射部と、移動可能に設けられ、前記ビームスプリッタが分割した他方の分割ビームが入射する移動反射部と、この移動反射部と前記固定反射部とが反射した前記各分割ビームが入射するとともに、これら各ビームの一部を透過し、一部を反射して、各々の透過光と反射光とを干渉させ、相互に位相の異なる第1干渉光と第2干渉光とを発生する干渉光発生部と、前記第1干渉光を検出する第1光検出部と、前記第2干渉光を検出する第2光検出部と、この第2光検出部と前記第1光検出部との検出信号に基づいて、前記移動反射部の移動方向を検知する方向判別部と、前記第1光検出部と前記第2光検出部との少なくともいずれか一方の検出信号に基づいて、前記移動反射部の変位量を求める変位量演算部とを有することを特徴とするレーザ干渉変位測定装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭50-010154
  
• 特開昭64-012202
  
• 特開昭61-215903