Pat
J-GLOBAL ID:200903004428301197
定着装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
外川 英明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998360301
Publication number (International publication number):2000181258
Application date: Dec. 18, 1998
Publication date: Jun. 30, 2000
Summary:
【要約】【課題】 電磁誘導加熱方式の定着装置において、コイルの温度上昇によるコイルの劣化、芯材のキュリー点の問題により安定した加熱ができない。さらに、発生する磁場が外部に影響を与えていた。【解決手段】 磁場発生手段として空芯コイルを用い、加熱ローラと磁場遮断部材で挟むよう構成する。
Claim (excerpt):
導電性を有する加熱手段と、この加熱手段に圧接する圧接手段と、導電性線材によりコイル状に形成され、発生する磁場を前記加熱手段に作用させて渦電流を発生させることにより発熱させる磁場発生手段と、この磁場発生手段より発生する磁場を遮断する磁場遮断手段と、からなり、前記磁場発生手段が前記加熱手段と前記磁場遮蔽手段との間に挟まれるよう配置したことを特徴とする定着装置。
IPC (2):
G03G 15/20 101
, G03G 15/20 109
FI (2):
G03G 15/20 101
, G03G 15/20 109
F-Term (7):
2H033AA03
, 2H033AA31
, 2H033AA32
, 2H033BA27
, 2H033BB00
, 2H033BE06
, 2H033CA43
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
誘導加熱定着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312846
Applicant:ミノルタ株式会社
-
定着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-230999
Applicant:ミノルタ株式会社
-
加熱装置及び画像形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-140998
Applicant:キヤノン株式会社
Return to Previous Page