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J-GLOBAL ID：200903004437644820

基板表面の汚染度検出方法及び基板表面の汚染度検出装置

Inventor： 河合 晃
Applicant, Patent owner： 河合 晃
Agent (1)： 藤吉 繁 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998061923
Publication number (International publication number)：1999248617
Application date： Feb. 27, 1998
Publication date： Sep. 17, 1999
Summary：

【要約】【課題】 シリコンウエハーや石英などの大型基板表面の汚染度を効率的かつ精度良く非破壊で測定する手段はなかった。【解決手段】 冷却機能を有し、表面に複数個の小突起を設け、該小突起上に検査対象である基板を載置するようした平坦な冷却プレートと;前記冷却プレートの上方に空間を隔てて位置し、前記冷却プレートに向けて平行光線を照射する様にした光線照射装置と;冷却プレートと光線照射装置との間の空間に上下移動可能に位置した散乱光観測用カメラ;とからなり、前記散乱光観測用カメラが捉えた散乱リングから検査対象である基板表面の汚染状況を検出する様にした。

Claim (excerpt)：

検査対象である基板の表面に多数の微小液滴を付着させ、該基板の上方あるいは下方からその微小液滴に向けて平行光線を照射し、微小液滴からの散乱光によって基板上方あるいは下方に生ずる散乱リングを光学的手段によって観察し、その直径、リング幅、リングの歪み、散乱リングの消失時間から基板表面の汚染状況を検出することを特徴とする基板表面の汚染度検出方法。

IPC (3)：

G01N 13/00 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66

FI (3)：

G01N 13/00 ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/66 L