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J-GLOBAL ID:200903004463598690
干渉測定装置及び干渉測定方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 高柴 忠夫
, 増井 裕士
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007048883
Publication number (International publication number):2008209365
Application date: Feb. 28, 2007
Publication date: Sep. 11, 2008
Summary:
【課題】レンズの平面部の干渉縞とレンズ本体の干渉縞とを分離し、レンズ本体の透過波面測定における誤差を小さくする。【解決手段】レンズ本体と平面部16とを有するレンズの透過波面を測定する干渉測定装置1は、レンズの設計波長と同一の波長を有する検査光B1を発生する第1光源2と、検査光B1と異なる波長を有するアライメント光B2を発生する第2光源3と、検査光B1及びアライメント光B2を、参照光と被検光とに分割するメインビームスプリッタ4と、被検光を反射する球面ミラー6と、球面ミラー6とメインビームスプリッタ4との間に設けられた補正板17と、レンズが設置される載物台14と、参照光を反射する平面ミラー5とを備え、検査光B1の可干渉距離は、レンズの設計パラメータを含む光学的パラメータに基づいて決定される設計光路差より短く、アライメント光B2の可干渉距離は設計光路差以上の長さである。【選択図】図1
Claim (excerpt):
レンズ本体と前記レンズ本体の周辺部に設けられた平面部とを有するレンズの透過波面を測定する干渉測定装置であって、
前記レンズの設計波長と同一の波長を有する検査光を射出する第1光源と、
前記検査光と異なる波長を有するアライメント光を射出する第2光源と、
前記検査光又は前記アライメント光を、参照光と被検光とにそれぞれ分割する第1反射面を有するビームスプリッタと、
前記被検光を反射する第2反射面を有する球面ミラーと、
前記球面ミラーと前記ビームスプリッタとの間に設けられた補正板と、
前記補正板と前記ビームスプリッタとの間に設けられ、前記レンズが設置される載物台と、
前記参照光を反射する第3反射面を有する平面ミラーと、
を備え、
前記球面ミラーと前記平面ミラーとは、前記被検光の光軸と前記参照光の光軸とが直交し、かつ前記第2反射面と前記第1反射面との間の光学的距離と、前記第3反射面と前記第1反射面との間の光学的距離とが同一となるように配置されており、
前記検査光の可干渉距離は、前記レンズの設計パラメータを含む光学的パラメータに基づいて決定される設計光路差より短く設定されており、前記アライメント光の可干渉距離は、前記設計光路差以上の長さに設定されていることを特徴とする干渉測定装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (19):
2F064AA00
, 2F064BB04
, 2F064CC02
, 2F064CC03
, 2F064EE01
, 2F064FF02
, 2F064GG12
, 2F064GG20
, 2F064GG22
, 2F064GG40
, 2F064GG44
, 2F064GG59
, 2F064GG64
, 2F064GG66
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064HH09
, 2F064JJ01
, 2G086HH06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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干渉計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-205689
Applicant:コニカミノルタホールディングス株式会社
Cited by examiner (2)
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干渉測定方法及び干渉測定システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-006335
Applicant:コニカミノルタオプト株式会社
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干渉計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-205689
Applicant:コニカミノルタホールディングス株式会社
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