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J-GLOBAL ID：200903004472139011

パターン転写装置

Inventor： 武久 究 ,  桑原 皓二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994058500
Publication number (International publication number)：1995273003
Application date： Mar. 29, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：

【要約】【構成】レーザ装置2から取り出されるレーザ光1はビーム拡大器3により、液晶マスク4の全面を照射し、マーキングさせるパターン状の偏光方向を有するレーザ光は、偏光ビームスプリッタ5で反射して、結像レンズ6に入射し、液晶マスク4でのパターンが感光性樹脂7に転写される。ここで、感光性樹脂7ではパターンがぼかされて転写されるため、液晶マスク4において画素と画素との間に対応する部分にもレーザ光が照射され、マーキングされる。【効果】液晶マスクを用いても連続するパターン状にマーキングできるようになった。

Claim (excerpt)：

液晶マスクと結像光学系を含み、前記液晶マスクに表示された像を、ワーク表面より前記結像光学系側、または、前記ワーク内部に結像させることを特徴とするパターン転写装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521