化学増幅ポジ型レジスト材料

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：好宮幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996257756
Publication number (International publication number)：1998083079
Application date： Sep. 06, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】光発生した酸のレジスト膜内での濃度を、膜厚方向でできるだけ均一とし、その結果、レジスト膜に形成されるパターンの矩形性を向上させる共に、定在波によるパターンの側壁の凹凸を縮小させることができる、化学増幅ポジ型レジストを提供する。【解決手段】 (A)有機溶剤、(B)酸不安定基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、(C)光酸発生剤、(D)光塩基発生剤、および場合により(E)溶解阻止剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料。

Claim (excerpt)：

(A)有機溶剤、(B)酸不安定基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、(C)光酸発生剤、および(D)光塩基発生剤を含有する、ことを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 503 B , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

パターン形成用材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-347042 Applicant：ヘキストジャパン株式会社
ポジ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-098671 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感電離放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-063862 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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