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J-GLOBAL ID:200903004519510929

輻射熱量制御装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993173533
Publication number (International publication number):1995025398
Application date: Jul. 14, 1993
Publication date: Jan. 27, 1995
Summary:
【要約】【目的】熱膨張率の比較的高い作動流体の熱膨張・収縮を利用してブレードの物理的な移動量を制御することにより、周回周期の短い人工衛星の輻射熱量をも速やかに制御できるようにする。【構成】平面部1の底面は高い熱伝導率で人工衛星本体と結合される。作動流体2には高い熱膨張率のシリコンオイル,パラフィン等の物質を用いる。ベローズ4とリザーバ7とをパイプにより連結して作動流体2を充填しておく。作動流体2中に浸したヒータ3をオンして作動流体2を加熱する。ベローズ4の底部に連結した伝達棒6は作動流体2の体積変化により左右方向に移動する。伝達棒6に形成されたラック9は各ブレード5aの軸に直結したピニオン10と互いに噛み合っている。ベロース4の伸縮により各ブレード5aは回転して平面部1の有効熱輻射面積を可変する。各ブレード5aの表面には熱輻射率の低いアルミテフロン膜が貼り付けられている。
Claim (excerpt):
熱輻射率の大きい人工衛星と低い熱抵抗で接触している平面部と、この平面部の上部において移動して前記平面部の有効熱輻射面積を可変とする熱輻射率の小さい複数のブレードと、この各ブレードを駆動して物理的に移動させるための熱膨張率の高い作動流体を充填したベローズと、このベローズ内の前記作動流体を熱膨張させるためのヒータとを備えることを特徴とする輻射熱量制御装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭59-176200

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