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J-GLOBAL ID：200903004529088923
集束イオンビーム蒸着装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西田 新
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994009303
Publication number (International publication number)：1995216542
Application date： Jan. 31, 1994
Publication date： Aug. 15, 1995
Summary：
【要約】【目的】 曲面上にサブミクロンオーダーの精度で、良質の薄膜からなる微小パターンを作成することのできる集束イオンビーム蒸着装置を提供する。【構成】 試料を支持する試料ホルダ7の直前に減速電場を形成する手段15を備えた集束イオンビーム装置において、試料ホルダ7の上に、試料の周囲の一部を覆って、試料を含めた全体としての表面形状を略平面状に補正する導電体からなる補正電極30を設け、また、その試料ホルダ7上の試料を所定の回転軸を中心として回転させる回転駆動機構31を設けた構成とする。
Claim (excerpt)：
イオン源と、このイオン源からイオンをビーム状に引き出す引き出し電極と、引き出されたイオンビームを集束させる集束レンズ系と、上記イオン源から引き出されたイオンのうち所定のイオンを取り出す質量分離器と、試料を支持する試料ホルダと、その試料ホルダを支持して少なくとも平面上で移動可能なステージと、上記質量分離器により取り出されたイオンビームを偏向させつつ上記試料ホルダ上の試料に導くビーム偏向手段と、上記試料ホルダの直前に減速電場を形成する手段を有する装置において、上記試料ホルダ上に、試料の周囲の一部を覆って、その試料を含めた全体としての表面形状を略平面状に補正する導電材料からなる補正電極が設けられているとともに、上記試料ホルダに近接して、当該試料ホルダ上の試料を所定の回転軸を中心として回転させる回転駆動機構が設けられていることを特徴とする集束イオンビーム蒸着装置。
IPC (3)：
C23C 14/32
, H01J 37/317
, H01L 21/203
