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J-GLOBAL ID：200903004542491729

流体加熱器

Inventor： 門谷 皖一
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 橋爪 良彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991168738
Publication number (International publication number)：1993231712
Application date： Jun. 13, 1991
Publication date： Sep. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 輻射光によって被加熱流体を共振加熱する流体加熱器であって、半導体デバイスの製造工程におけるシリコン等のウエハーの洗浄液、エッチング液、レジスト剥離液の加熱および温度制御並びにフライヤーでの食品用油の加熱及び温度制御等、被加熱流体を流しながら、その加熱及び温度制御を好適に行える流体加熱器を提供すること。【構成】 管壁に流体の流入部及び流出部を有し、両端が開放された第1の中空管内部に、両端が開放された透明な第2の中空管を、前記第1の中空管の内壁との間に空間を有して配し、前記第2の中空管内部に、その内壁との間に空間を有して光源を配し、支持部材によって該光源の両端部を前記第2の中空管内部に支持する。

Claim (excerpt)：

電気ヒータ2の外周に流体加熱管1を配設し、さらにこの流体加熱管1の外周に内向き反射部材5を配設し、前記流体加熱管1は透明部材である構成を特徴とする流体加熱器。

IPC (4)：

F24H 1/10 ,  F16L 53/00 ,  H05B 3/40 ,  H05B 3/44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-116246
  
• 特開昭63-075439