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J-GLOBAL ID：200903004563912376
光環境解析方法と光環境解析装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石原 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992015816
Publication number (International publication number)：1993210746
Application date： Jan. 31, 1992
Publication date： Aug. 20, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 誤差がより少く、シミュレーション時間が短い光環境解析方法を提供する。【構成】 光源、採光面、壁、天井、家具の各物体が存在する解析対象の空間について、コンピュータが直接光と反射光の軌跡を追跡する解析方法において、解析対象の空間を分割する多数の平面をコンピュータに座標入力して、任意形状の追跡用メッシュを追跡用ブロックメッシュ座標入力工程#1と、追跡用メッシュの中小さいものを合成/分割して縦横比が1により近く、より大きい形状の反射光源用メッシュに再構成する反射光源用メッシュ構成工程#40と、追跡用メッシュと前記反射光源用メッシュとを光源とし各追跡用メッシュを反射面として、ブロックを使用して室内空間内で反射する光の軌跡を追跡して、各追跡メッシュの受光量を演算する受光量演算工程#6と反射光量演算工程#8、#50とを有することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
光源、採光面、壁、床、天井、家具、什器の各物体が存在する解析対象の光環境空間について、光源や採光面からの直接光だけではなく相互反射光も含めて光線の軌跡を追跡し、コンピュータ・シミュレーションする光環境解析方法において、コンピュータが室内空間内で相互反射する光線の軌跡を追跡するために、解析対象の光環境空間を形成する全内表面を、前記各物体毎に分割する多数のX-Y、Y-Z、Z-X平面をコンピュータに座標入力して、全空間を追跡用ブロックに分割し、且つ、前記全内表面を形成する前記各物体の各表面を前記多数のX-Y、Y-Z、Z-X平面で細かく分割して任意形状の追跡用メッシュを作る追跡用ブロック・メッシュ座標入力工程と、前記各物体毎に、前記追跡用メッシュの中の小さいもの及び偏平形状のものを合成及び/又は分割して縦横比が1により近く、より大きい形状の反射光源用メッシュに再構成する反射光源用メッシュ構成工程と、前記追跡用メッシュと前記反射光源用メッシュとを光源とし各追跡用メッシュを相互反射面として、コンピュータが前記追跡用ブロックを使用して室内空間内で相互反射する光線の軌跡を追跡して、各追跡用メッシュの受光量を演算する受光量演算工程と、各追跡用メッシュの受光量に基づいて各追跡用メッシュ及び前記各光源用メッシュが反射する光量を演算する反射光量演算工程とを有することを特徴とする光環境解析方法。
IPC (2)：
G06F 15/72 450
, G06F 15/60 450
