Pat

J-GLOBAL ID：200903004565866576

シリカ微粒子、それが分散したシリカコロイド及びその製造方法

Inventor： 鍬崎 尚哉 ,  片山 英孝 ,  青井 晴彦 ,  古川 信之
Applicant, Patent owner： 新日鐵化学株式会社
Agent (3)： 成瀬 勝夫 ,  中村 智廣 ,  佐野 英一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003112610
Publication number (International publication number)：2004315300
Application date： Apr. 17, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：

【課題】高純度のシングルナノサイズのシリカ粒子又はこれが分散したコロイドを提供するとともに、これから得られる有機-無機ハイブリッド材、低誘電率絶縁層を提供する。【解決手段】シリコン、酸素、水素及び炭素を除く全ての不純物元素の含有量が0.02ppm以下であり、且つ平均粒子径が1nm以上、10nm未満のシリカ微粒子又はそれが分散したシリカコロイドを、以下の▲1▼〜▲4▼の各条件を満足する条件で、シリコンアルコキシドを水、アルコール及びアンモニアの混合溶液に添加して加水分解・脱水縮合反応させて製造する。▲1▼加水分解反応時の混合溶液温度が、50°C〜アルコールの沸点以下。▲2▼混合溶液のアンモニア濃度が、0.05〜0.40モル/L。▲3▼水とシリコンアルコキシドのモル比が、2〜8モル。▲4▼シリコンアルコキシドの添加速度が、10cm3/min・L以下。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

シリコン、酸素、水素及び炭素を除く全ての不純物元素の含有量が0.02ppm以下であり、且つ平均粒子径が1nm以上、10nm未満のシリカ微粒子又はそれが分散したシリカコロイド。

IPC (6)：

C01B33/18 ,  B01J13/00 ,  C01B33/141 ,  C01B33/145 ,  C08J5/00 ,  H01L21/316

FI (6)：

C01B33/18 Z ,  B01J13/00 B ,  C01B33/141 ,  C01B33/145 ,  C08J5/00 ,  H01L21/316 G

F-Term (57)：

4F071AA33 ,  4F071AA60 ,  4F071AB26 ,  4F071AE17 ,  4F071AF39 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4G065AA01 ,  4G065AA02 ,  4G065AA10 ,  4G065AB03X ,  4G065AB13X ,  4G065AB38X ,  4G065CA11 ,  4G065DA09 ,  4G065DA10 ,  4G065EA01 ,  4G065EA03 ,  4G065EA05 ,  4G065EA06 ,  4G065EA10 ,  4G065FA01 ,  4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC01 ,  4G072CC02 ,  4G072DD07 ,  4G072EE01 ,  4G072EE06 ,  4G072EE07 ,  4G072EE10 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072LL14 ,  4G072LL15 ,  4G072LL17 ,  4G072MM01 ,  4G072PP01 ,  4G072PP14 ,  4G072QQ07 ,  4G072RR05 ,  4G072RR07 ,  4G072RR12 ,  4G072TT01 ,  4G072TT19 ,  4G072UU30 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BH04 ,  5F058BJ01