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J-GLOBAL ID：200903004572029558
アライメント方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993088077
Publication number (International publication number)：1994275488
Application date： Mar. 23, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、複数層の下地層のそれぞれで形成した各アライメントパターンに対して、合わせずれ量を最小限にして、マスクのアライメントパターンを合わせる。【構成】 複数の下地層で形成したアライメントパターン11,21の変位位置A,Bを検出して、アライメントの対象になる各検出したアライメントパターン11,21の変位位置A,Bに基づいて仮想のアライメントパターン41の位置を決定する。そして、仮想のアライメントパターン41にマスクのアライメントパターン31を合わせる。または上記仮想のアライメントパターン41の位置は、検出したアライメントパターン11,21の変位位置A,Bに重み付け係数κA ,κB を乗じ、重み付け係数κA ,κB を乗じた各変位位置に基づいて決定してもよい。
Claim (excerpt)：
複数の下地層で形成したアライメントパターンに対して露光装置のマスクのアライメントパターンを合わせるアライメント方法において、前記複数の下地層で形成したアライメントパターンの変位位置を検出し、アライメントの対象になる前記各検出したアライメントパターンの変位位置に基づいて仮想のアライメントパターンの位置を決定した後、前記仮想のアライメントパターンに前記マスクのアライメントパターンを合わせることを特徴とするアライメント方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 9/00
