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J-GLOBAL ID：200903004577952206

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 上西 一也 ,  百田 淳 ,  青合 利明 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995029872
Publication number (International publication number)：1996220749
Application date： Feb. 17, 1995
Publication date： Aug. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高解像力でマスク寸法を正確に再現でき、広い現像ラチチュードを有し、耐熱性に優れしかも膜厚依存性が小さいポジ型フォトレジストを提供する。【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)1,2-ナフトキノンジアジド-5(及び/又は-4)-スルホン酸エステル化合物、(C)特定の酸分解性基を有する分子量3,000以下の低分子化合物および(D)光酸発生剤を、前記成分(B)および成分(C)の配合割合が、5≦〔B+C〕≦70(wt%)......全固形分に対するwt%、かつ30≦100B/(B+C)≦95(wt%)の関係式を満足するように含むポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)1,2-ナフトキノンジアジド-5(及び/又は-4)-スルホン酸エステル化合物、(C)酸分解性基を有する分子量3,000以下の低分子化合物、酸分解性基:第3級アルキルエステル基、第3級アルキルカーボネート基、クミルエステル基、テトラヒドロピラニルエーテル基、(D)光酸発生剤、を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501

FI (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501