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J-GLOBAL ID：200903004586060717

露光装置

Inventor： 野元 誠
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999320152
Publication number (International publication number)：2001143987
Application date： Nov. 10, 1999
Publication date： May. 25, 2001
Summary：

【要約】【課題】 大量の不活性ガス消費によるコストアップを招くことなく光学部材のケミカル汚染を防止する。【解決手段】 露光装置において、エア8から不活性ガス9を取り出す不活性ガス生成手段11と、基板3に照射される照明光L1の光路に不活性ガス生成手段から不活性ガスを供給する不活性ガス供給ライン12とを設ける。

Claim (excerpt)：

エアから不活性ガスを取り出す手段と、取り出された不活性ガスを基板に照射される照明光の光路に供給する不活性ガス供給ラインとを有することを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 F

F-Term (6)：

5F046AA22 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27