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J-GLOBAL ID：200903004588131743

ガス処理装置およびガス処理方法

Inventor： 相部 紀夫 ,  柴田 和雄
Applicant, Patent owner： 武田薬品工業株式会社
Agent (1)： 鍬田 充生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992270923
Publication number (International publication number)：1994000318
Application date： Sep. 14, 1992
Publication date： Jan. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 室内などのコーナー部や電源をとりにくい小さい空間にガス処理装置を配置しても、被処理ガス中の多数の臭気成分や有害成分を効率よく除去する。【構成】 臭気成分を含む被処理ガスのガス導入口2からガス排出口3に至るケーシング1のガス流路内に、回転可能なファン10と、性質の異なる複数の活性炭ハニカム、例えば、薬品無担持活性炭ハニカム及び/又はヨウ素担持活性炭ハニカム7と酸担持活性炭ハニカム8とを設ける。前記被処理ガスの吸引方向と排出方向とが異なるケーシング1の部位に、前記ガス導入口2とガス排出口3とが形成されている。電源をとりにくい小さな空間を処理するため、前記ファンの動力源として乾電池を用いてもよい。

Claim 1：

ガス導入口からガス排出口に至るガス流路内に、性質の異なる複数の活性炭ハニカムと、前記ガス導入口から排出口の方向に被処理ガスを送風する送風手段とが備えられ、前記被処理ガスの導入方向と排出方向とが異なるように前記ガス導入口と排出口とが配置されているガス処理装置。

IPC (3)：

B01D 53/04 ,  A61L 9/16 ,  F23J 15/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-077517
  
• 特開昭63-178822