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J-GLOBAL ID：200903004592034221

縦型熱処理炉およびその設置構造

Inventor：
藤田 研作

About 藤田 研作


Applicant, Patent owner：
九州日本電気株式会社

About 九州日本電気株式会社


Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999259100
Publication number (International publication number)：2001085337
Application date： Sep. 13, 1999
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：
【要約】【課題】半導体基板面内の均一な処理を可能にし、簡素化された構造で且つ発塵の恐れがない、有効な縦型熱処理炉およびその設置構造を提供する。【解決手段】炉心管1内に複数の半導体基板2を搭載したボート3を載置し、炉心管内に反応ガス8を流して半導体基板に熱処理を施す縦型熱処理炉において、炉心管に複数の炉心管排気口11,12をたがいに等間隔に設ける。
Claim 1：
筒状の炉心管内に複数の半導体基板を搭載したボートを載置し、前記炉心管内に反応ガスを流して前記半導体基板に熱処理を施す縦型熱処理炉において、前記炉心管に複数の炉心管排気口をたがいに等間隔に設けたことを特徴とする縦型熱処理炉。
IPC (2)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511
FI (2)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 S
F-Term (9)：
5F045BB02 ,  5F045BB15 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EC08 ,  5F045EE20 ,  5F045EF20 ,  5F045EG01 ,  5F045EG05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 減圧CVD装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-020733   Applicant：三益半導体工業株式会社, 信越半導体株式会社
  • CVD装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-262741   Applicant：国際電気株式会社
  • 縦型拡散装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-090525   Applicant：株式会社東芝
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Cited by examiner (5)
  • 減圧CVD装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-020733   Applicant：三益半導体工業株式会社, 信越半導体株式会社
  • CVD装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-262741   Applicant：国際電気株式会社
  • 縦型拡散装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-090525   Applicant：株式会社東芝
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