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J-GLOBAL ID:200903004606327081

安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムから得られた耐衝撃性芳香族ビニルポリマー

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 越場 隆
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998266804
Publication number (International publication number):1999147912
Application date: Sep. 21, 1998
Publication date: Jun. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】 芳香族ビニルポリマーのマトリクスとゴム粒子とを含む組成物の製造方法。耐衝撃性芳香族ビニルポリマーの光沢度を高める目的で「サラミ」形態以外の形態、例えば「迷路」「オニオン」または「カプセル」の形態を得ることができる。【解決方法】 エラストマーを安定な遊離ラジカル、エラストマーから1つのプロトンを抜き出すことができる遊離ラジカル開始剤および溶媒の存在下且つ芳香族ビニルモノマーの非存在下で熱処理する段階を含む、一つのゴム鎖当たり平均0.1〜10の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムを製造し、このゴムを用いて組成物を製造する。
Claim (excerpt):
エラストマーを安定な遊離ラジカル、エラストマーから1つのプロトンを抜き出すことができる遊離ラジカル開始剤および溶媒の存在下且つ芳香族ビニルモノマーの非存在下で熱処理する段階を含む、一つのゴム鎖当たり平均0.1〜10の安定な遊離ラジカルを発生する基を有するゴムの製造方法。
IPC (2):
C08F 8/00 ,  C08F279/02
FI (2):
C08F 8/00 ,  C08F279/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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