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J-GLOBAL ID：200903004606933194
マスク用布
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998077595
Publication number (International publication number)：1999267234
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 05, 1999
Summary：
【要約】【課題】 装着時の呼吸が容易に行え、且つ、粉塵等の捕集性に優れたマスクを得るために使用される、十分な捕集性と高い通気性とを兼備したマスク用布を提供する。【解決手段】 フラジール数が180〜380cm/秒であり、且つ、粒子径0.5μmの粒子を対象としたPF値が20以上であるポリテトラフルオロエチレン多孔質膜1の少なくとも片面に、通気性を有する材料2が積層されてなることを特徴とした。
Claim (excerpt)：
フラジール数が180〜380cm/秒であり、且つ、PF値が20以上であるポリテトラフルオロエチレン多孔質膜の少なくとも片面に、通気性を有する材料が積層されてなることを特徴とするマスク用布。但し、前記PF値とは、ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜に空気を流速5.3cm/秒で透過させた時の圧力損失L[mmH2 O]と、粒子径0.5μmのエアロゾルの捕集効率E[%]とから下記式によって算出される値である。PF値=-log(1-E/100)/L×100
Patent cited by the Patent：
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