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J-GLOBAL ID：200903004617733979

反射体及びその製造方法

Inventor： ウルリヒ パペンブルク ,  エルンスト ブレニンガー ,  ペーター ゲートケ ,  ミヒャエル デーラー
Applicant, Patent owner： インダストリーアンラーゲン-ベトリープスゲゼルシャフト ミット ベシュレンクター ハフツンク ,  ドイツ エアロスペース アクツエンゲゼルシャフト
Agent (1)： 松本 武彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994234104
Publication number (International publication number)：1996021905
Application date： Sep. 01, 1994
Publication date： Jan. 23, 1996
Summary：

【要約】【目的】 機械的/熱的な特性が改善され、光学特性が向上し、かつ製造の容易な反射体を提供する。【構成】 反射体は、電磁波を反射する反射体であって、基質要素と被覆と反射層とを備えている。前記基質要素は、少なくとも部分的にカーバイド化した多孔質炭素、および適切であれば埋め込まれたシリコンで構成されている。前記被覆は、前記基質要素に強固に結合され、前記基質要素とは反対側の表面がとくに研削によって滑らかにされ、かつシリコンまたはシリコンカーバイドもしくは両方の混合物からなっている。前記反射層は、シリコン、シリコンカーバイド、酸化シリコン、窒化シリコン、金、銀、ニッケル、銅、またはそれらの金属の合金からなっている。

Claim (excerpt)：

電磁波を反射する反射体であって、少なくとも部分的にカーバイド化した多孔質炭素、および適切であれば埋め込まれたシリコンで構成された基質要素と、前記基質要素に強固に結合され、前記基質要素とは反対側の表面がとくに研削によって滑らかにされ、かつシリコンまたはシリコンカーバイドもしくは両方の混合物からなる被覆と、シリコン、シリコンカーバイド、酸化シリコン、窒化シリコン、金、銀、ニッケル、銅、またはそれらの金属の合金の反射層と、を備えた反射体。

IPC (2)：

G02B 5/08 ,  G02B 1/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• X線反射用ミラーおよびその製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-233185   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開昭64-025101
  
• 特開昭58-035360