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J-GLOBAL ID:200903004627253762

炭素中空繊維膜用のセルロース系中空繊維膜および炭素中空繊維膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 加々美 紀雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999189309
Publication number (International publication number):2001009247
Application date: Jul. 02, 1999
Publication date: Jan. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 柔軟性があり、曲げ強度に優れ、破損の少ない炭素中空繊維膜製造用セルロース系中空繊維膜および炭素中空繊維膜の製法を提供すること。【解決手段】 セルロース系中空繊維膜を炭化焼成して、炭素中空繊維膜を製造する時の原料となるセルロース系中空繊維膜の水分率Fが25°C、相対湿度65%の環境条件下で、水分率の変化Fが以下の式の範囲にあり、かつ水分率の変化を時間で積分した時の積分値Tがそれぞれ以下に示す値以上になる・水分率の変化の式F=a・1n(x)+ba≦1.551≦b≦10・時間(日数)で積分した時の積分値TT=∫(a・1n(x)+b)dx≧110【効果】 本発明のセルロース系中空繊維膜を炭化焼成した時に得られる炭素中空繊維膜は、柔軟性があり、曲げ強度に優れ、破損の少ないガス分離モジュールの成型加工が容易な炭素中空繊維膜を得る。
Claim 1:
(1)温度25°C、相対湿度65%のもとで放置したときの、水分率(F)と経時時間(x、単位:日)との関係を式1で近似した場合に、a及びbが式2及び3を充足するセルロース系中空繊維膜を準備する工程、(2)(1)の中空繊維膜を、温度25°C、相対湿度65%のもとで式4を満足する時間(T、単位:日)、放置する工程、及び(3)(2)の中空繊維膜を焼成して炭素化する工程、を含む炭素中空繊維膜の製造方法。 F=a・1n(x)+b (1) a≦1.55 (2) 1≦b≦10 (3) T=∫(a・1n(x)+b)dx≧110 (4)
IPC (5):
B01D 71/02 ,  B01D 69/08 ,  B01D 71/10 ,  D01F 2/04 ,  D01F 9/16
FI (5):
B01D 71/02 ,  B01D 69/08 ,  B01D 71/10 ,  D01F 2/04 A ,  D01F 9/16
F-Term (35):
4D006GA41 ,  4D006MA01 ,  4D006MA31 ,  4D006MA33 ,  4D006MB16 ,  4D006MC05X ,  4D006MC12 ,  4D006MC13X ,  4D006MC15 ,  4D006MC18X ,  4D006NA01 ,  4D006NA21 ,  4D006NA39 ,  4D006NA61 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PC71 ,  4L035AA09 ,  4L035BB03 ,  4L035BB08 ,  4L035BB16 ,  4L035DD03 ,  4L035DD14 ,  4L035FF01 ,  4L037CS03 ,  4L037FA04 ,  4L037FA06 ,  4L037PA52 ,  4L037PC03 ,  4L037PC05 ,  4L037PC10 ,  4L037PF14 ,  4L037PF18 ,  4L037UA20

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