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J-GLOBAL ID:200903004644044760
水素-窒素混合ガスの製造方法およびその装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
三枝 英二 (外10名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998243467
Publication number (International publication number):2000072404
Application date: Aug. 28, 1998
Publication date: Mar. 07, 2000
Summary:
【要約】【課題】簡易な装置を使用して、オンサイトで高純度の水素-窒素混合ガス(水素-窒素の合計濃度98%以上)を低コストで製造する技術を提供することを主な目的とする。【解決手段】炭化水素を原料として吸熱形ガスを製造し、これを吸熱形ガス中の水素と窒素以外のガスを優先的に吸着する吸着剤と接触させることにより、水素-窒素混合ガスを製造する方法。
Claim (excerpt):
炭化水素を原料として吸熱形ガスを製造し、これを吸熱形ガス中の水素と窒素以外のガスを優先的に吸着する吸着剤と接触させることにより、水素-窒素混合ガスを製造する方法。
IPC (5):
C01B 3/38
, B01D 53/04
, C01B 3/56
, C21D 9/67
, C23C 2/06
FI (5):
C01B 3/38
, B01D 53/04 B
, C01B 3/56 Z
, C21D 9/67
, C23C 2/06
F-Term (21):
4D012CA20
, 4D012CB16
, 4D012CD07
, 4D012CE01
, 4D012CF03
, 4D012CF04
, 4D012CG01
, 4D012CH05
, 4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB31
, 4G040FA01
, 4G040FB04
, 4G040FB06
, 4G040FC03
, 4G040FD01
, 4G040FE02
, 4K027AA02
, 4K027AA22
, 4K027AE31
, 4K027AE33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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熱処理炉用雰囲気ガス製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-204655
Applicant:大同プラント工業株式会社, 大同特殊鋼株式会社
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特開昭61-149425
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熱処理用雰囲気の発生法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-160195
Applicant:プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
-
特開昭61-106403
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アンモニア合成ガス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-035819
Applicant:インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー
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特開昭60-042201
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特開昭55-144401
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