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J-GLOBAL ID：200903004649929980

金属マイクロ構造体の製造方法

Inventor： クラウス ハイアース ,  ベルンハルト エルスナー
Applicant, Patent owner： ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998207403
Publication number (International publication number)：1999100689
Application date： Jul. 23, 1998
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ポリマ層7にトレンチ8を形成し、そこに金属マイクロ構造体10を充填する形式の構成において、側壁が絶縁層で覆われている金属マイクロ構造体を簡単に製造する。【解決手段】 金属マイクロ構造体10を電気化学的なプロセスで充填する前に、トレンチ8の側壁を絶縁層9で覆い、ポリマ層7の除去した後でも、この絶縁層9を金属マイクロ構造体10に付着させたままにする。

Claim (excerpt)：

ポリマ層(7)に金属マイクロ構造体(10)のためのトレンチ(8)を形成し、電気化学的な析出ステップにより該トレンチ(8)に金属マイクロ構造体(10)を充填し、続くステップで前記ポリマ層(7)を除去する形式の、金属マイクロ構造体の製造方法において、前記の電気化学的な析出の前にトレンチ(8)の側壁に絶縁層(9)を生成し、該絶縁層を、ポリマ層(7)の除去後も金属マイクロ構造体(10)の相応の側壁に残留させることを特徴とする、金属マイクロ構造体の製造方法。

IPC (6)：

C25D 1/00 381 ,  C23F 4/00 ,  C25D 1/10 ,  H01L 21/283 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/3065

FI (6)：

C25D 1/00 381 ,  C23F 4/00 E ,  C25D 1/10 ,  H01L 21/283 W ,  H01L 21/302 Z ,  H01L 21/302 J