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J-GLOBAL ID：200903004653602880

再生はんだ、再生はんだの製造方法、及びはんだ付け方法

Inventor： 長沢 博幸 ,  羽生 和隆
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 逢坂 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999145871
Publication number (International publication number)：2000340947
Application date： May. 26, 1999
Publication date： Dec. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ドロスの還元を効率的に且つ経済的に有利に行って得られる再生はんだ、及びその製造方法ならびにはんだ付け方法を提供すること。【解決手段】 溶融はんだ槽1からドロス2を排出し、このドロスを還元する工程を経て製造される再生はんだ。この再生はんだを同じ溶融はんだ槽1へ戻すことによって、同槽内のメルトの組成を初期とほぼ同じに近づけることができる。

Claim (excerpt)：

溶融はんだ槽から排出したドロスを還元して得られた再生はんだ。

IPC (4)：

H05K 3/34 512 ,  H05K 3/34 ,  B23K 1/08 ,  C22B 7/04

FI (4)：

H05K 3/34 512 Z ,  H05K 3/34 512 C ,  B23K 1/08 Z ,  C22B 7/04 A

F-Term (11)：

4E080AA01 ,  4E080AA03 ,  4E080AB03 ,  4E080AB07 ,  4E080AB10 ,  4E080BA08 ,  4K001AA42 ,  4K001BA13 ,  4K001DB17 ,  5E319BB01 ,  5E319CC24