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J-GLOBAL ID：200903004660915908

超音波霧化装置

Inventor： 高橋 俊詞 ,  朝井 慶 ,  巻田 茂 ,  小幡 勝
Applicant, Patent owner： オムロン株式会社
Agent (1)： 中村 茂信
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994051461
Publication number (International publication number)：1995256170
Application date： Mar. 23, 1994
Publication date： Oct. 09, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 メッシュ部材が振動子より超音波振動を受けたときに、振動子(軸体上端)とメッシュ部材との間に充分な霧化量を実現できるに足る間隙を発生させることができる超音波霧化装置を提供することである。【構成】 超音波振動子を有するダブルホーン振動子10のホーン11の上端13において、吸液孔12周囲に環状の凸部15を設けた。【効果】 メッシュ部材1とホーン上端13の凸部15とが当接し、凸部15によりメッシュ部材1とホーン上端13との間隙が充分に確保される。

Claim (excerpt)：

下端及び上端に開口する液体吸い上げ用吸液孔を軸方向に有する軸体に、振動子を取付け、軸体上端に、多数の微細孔を持つメッシュ部材を当接させてなる超音波霧化装置において、前記軸体上端面の吸液孔周辺又は前記メッシュ部材の軸体上端当接面に、凸部を設けたことを特徴とする超音波霧化装置。

IPC (2)：

B05B 17/06 ,  F24F 6/12 101

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 超音波霧化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-069120   Applicant：本多電子株式会社
• 特開昭61-141955
  

Cited by examiner (2)

• 超音波霧化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-069120   Applicant：本多電子株式会社
• 特開昭61-141955