Pat
J-GLOBAL ID:200903004667712239
光電着法および光触媒法によるカラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、液晶表示装置およびカラーフィルターの製造装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中島 淳 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001040777
Publication number (International publication number):2002243929
Application date: Feb. 16, 2001
Publication date: Aug. 28, 2002
Summary:
【要約】【課題】 解像度が高くかつ高光透過性のカラーフィルターを、低コストで制御性よく作製することができるカラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、液晶表示装置およびカラーフィルター製造装置を提供すること。【解決手段】 反射防止膜付き光透過性基板の上にマトリクス状導電膜および光透過性半導体薄膜を形成した着膜基板、または前記基板の上に前記導電膜および特定の光学膜厚の半導体薄膜を形成した着膜基板を、着色材が含まれ、かつpHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する材料を含む水系の電着液あるいは電解液に接触させ、半導体薄膜の選択領域に光を照射する光電着法あるいは光触媒法により着色膜を析出させ、着色膜の下に実質的に導電膜が存在しないカラーフィルターを製造する方法、また着色膜の下に実質的に導電膜が存在しないカラーフィルター、これを用いる液晶表示装置、およびカラーフィルター製造装置。
Claim (excerpt):
光透過性基板の上に、反射防止膜、マトリクス状導電膜および光透過性半導体薄膜をこの順に形成した着膜基板を、着色材が含まれ、かつpHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する材料を含む水系の電着液に、前記着膜基板の少なくとも前記半導体薄膜が電着液に接触するように配置した状態で、前記半導体薄膜の選択領域に光を照射することにより選択領域の半導体薄膜と対向電極の間に電圧を印加し、前記半導体薄膜の選択領域に着色膜を析出形成する工程を含む、着色膜の下に実質的に導電膜が存在しないことを特徴とする、カラーフィルターの製造方法。
IPC (10):
G02B 5/20 101
, C23C 26/00
, C25D 13/00
, C25D 13/00 309
, C25D 13/12
, G02B 1/11
, G02F 1/1335
, G02F 1/1335 500
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/1343
FI (10):
G02B 5/20 101
, C23C 26/00 F
, C25D 13/00 H
, C25D 13/00 309
, C25D 13/12 A
, G02F 1/1335
, G02F 1/1335 500
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/1343
, G02B 1/10 A
F-Term (42):
2H048BA11
, 2H048BA45
, 2H048BA48
, 2H048BA62
, 2H048BA66
, 2H048BB02
, 2H048BB08
, 2H048BB43
, 2H091FA01Y
, 2H091FA02Y
, 2H091FA37Y
, 2H091FB02
, 2H091FB06
, 2H091FB08
, 2H091FC01
, 2H091FC06
, 2H091FD06
, 2H091GA03
, 2H092HA04
, 2H092JA37
, 2H092JA41
, 2H092JB51
, 2H092KB26
, 2H092NA27
, 2H092PA07
, 2H092PA08
, 2K009AA02
, 2K009BB02
, 2K009CC03
, 2K009DD03
, 4K044AA11
, 4K044AB05
, 4K044BA06
, 4K044BA12
, 4K044BA21
, 4K044BB04
, 4K044BB10
, 4K044BB16
, 4K044BC14
, 4K044CA13
, 4K044CA17
, 4K044CA34
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