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J-GLOBAL ID:200903004678170152

像形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 原 謙三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995186034
Publication number (International publication number):1996095355
Application date: Jul. 21, 1995
Publication date: Apr. 12, 1996
Summary:
【要約】【課題】 像形成を低コストで行えるようにする。【解決手段】 透明円筒基体2上に、透明電極層3、光導電層4、電極層5および誘電体からなる焦電材層6が順次積層されている潜像形成体1を使用し、上記透明円筒基体2との対向位置に設けたLEDアレイ8にて情報光を照射して、光導電層4内に導電キャリアを発生させる。次に、上記透明電極層3と電極層5との間に電圧を印加して、光導電層4の光照射位置を発熱させて焦電材層6を温度上昇させ、焦電効果にてその表面に静電潜像を形成させる。次に、上記静電潜像にこの静電潜像とは逆極性に帯電した現像剤を吸着させて現像する。本像形成方法は、高価なサーマルヘッド等の昇温手段や、潜像形成体に対する帯電手段、並びに導電性と磁性とを備えた高価な現像剤を使用せずに像形成が可能である。
Claim (excerpt):
透明基体上に、透明電極層、光導電層、電極層、および誘電体からなる焦電材層が順次積層されている潜像形成体を使用し、上記透明基体との対向位置に設けた光源にて情報光を透明基体側から光導電層内へ照射して、光導電層内に導電キャリアを発生させるステップと、上記透明電極層と電極層との間に電圧を印加して、上記光源による光導電層の光照射位置にジュール熱を発生させ、この熱が焦電材層に伝達されて焦電材層が温度上昇し、焦電効果にてその表面に電荷を発生することにより静電潜像を形成させるステップと、上記静電潜像にこの静電潜像とは逆極性に帯電した現像剤を吸着させて現像するステップとを含んでいることを特徴とする像形成方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 画像形成装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-059992   Applicant:富士通株式会社

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