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J-GLOBAL ID：200903004697272365

基板処理装置

Inventor： 大谷 正美
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 福島 祥人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997324995
Publication number (International publication number)：1999162813
Application date： Nov. 26, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】 処理部の所定の部位に水を導く導水通路の洗浄処理を随時行うことが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置10の純水供給配管系は、連結配管1を介して工場内の給水管路51に連結され、ドレン配管系は連結配管5を介して廃液管路52に連結されている。連結配管1の分岐部1aには洗浄液供給源20に接続される洗浄液送入チューブ3が接続され、連結配管5の分岐部5aには洗浄液を外部に排出する洗浄液排出チューブ7が接続されている。洗浄液送入チューブ3は純水供給配管系の内部に洗浄液を送り込み、純水供給配管系の内部を洗浄する。洗浄液排出チューブ7はドレン配管系に導かれた洗浄液を外部に排出する。

Claim (excerpt)：

基板に関する所定の処理を行う処理部と、前記処理部の所定の部位に水を導く導水通路とを備え、前記導水通路は、前記導水通路の洗浄時に前記導水通路内に洗浄液を送入するための送入部を有することを特徴とする基板処理装置。

IPC (7)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 351

FI (8)：

H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/30 564 C