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J-GLOBAL ID：200903004709136535

ウェハ検査装置

Inventor：
青柳 真也

About 青柳 真也


Applicant, Patent owner：
オリンパス株式会社

About オリンパス株式会社


Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003040460
Publication number (International publication number)：2004253492
Application date： Feb. 19, 2003
Publication date： Sep. 09, 2004
Summary：
【課題】ウェハの取り付け誤差やデバイスチップの製作誤差があっても、デバイスチップの観察作業を簡単に、しかも短時間で行う。【解決手段】デバイスチップが形成されたウェハ1がセットされるワークステージ2と、ワークステージ2をXYZの三次元方向に移動させる第1の移動手段3,4と、ワークステージ2を水平に回転させる第1の回転手段5と、デバイスチップにプロービングするプローブ6を備えたプロービングユニット11と、第1の移動手段3,4及びプロービングユニット11を一体としてXYZの三次元方向に移動させる第2の移動手段7,8と、ウェハ1上のデバイスチップを観察するための顕微鏡12と、デバイスチップの観察位置を補正する位置補正手段10とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
デバイスチップが形成されたウェハがセットされるワークステージと、ワークステージをXYZの三次元方向に移動させる第1の移動手段と、ワークステージを水平に回転させる第1の回転手段と、デバイスチップにプロービングするプローブを備えたプロービングユニットと、前記第1の移動手段及びプロービングユニットを一体としてXYZの三次元方向に移動させる第2の移動手段と、ウェハ上のデバイスチップを観察するための顕微鏡と、デバイスチップの観察位置を補正する位置補正手段とを備えていることを特徴とするウェハ検査装置。
IPC (3)：
H01L21/66 ,  G01R31/28 ,  H01L21/68
FI (3)：
H01L21/66 B ,  H01L21/68 F ,  G01R31/28 K
F-Term (19)：
2G132AA00 ,  2G132AE02 ,  2G132AE22 ,  2G132AF02 ,  2G132AF06 ,  4M106AA01 ,  4M106BA01 ,  4M106DD13 ,  4M106DJ07 ,  5F031CA02 ,  5F031HA13 ,  5F031JA04 ,  5F031JA28 ,  5F031JA32 ,  5F031JA40 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031MA33
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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