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J-GLOBAL ID：200903004714895690

薄膜パターンの不良箇所修正方法および薄膜パターンの形成方法

Inventor： 磯見 晃 ,  嶋田 幹也
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 前田 弘 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993099491
Publication number (International publication number)：1994308317
Application date： Apr. 26, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 カラーフィルタを歩留まり良く且つ低コストで製造することができる方法を提供する。【構成】 エキシマレーザ8を、基板1上に付着した異物3又は薄膜パターン2上に付着した異物4に照射することにより異物3,4のみを基板1又は薄膜パターン2にダメージを与えることなく除去できる。薄膜パターン2中に異物5が混入したり、薄膜パターン2にピンホール6やキズ7が生じたりしている場合には、異物5、ピンホール6又はキズ7及びそれらの周囲にエキシマレーザ8を照射することにより薄膜パターン2におけるエキシマレーザ8が照射された部分のみを除去できる。そして、基板1上における薄膜パターン2が除去された部分にのみ新たな薄膜パターン9を形成する。

Claim (excerpt)：

基板上の不良箇所又は基板上に形成された薄膜パターンの不良箇所にエキシマレーザを照射することにより上記不良箇所を除去する工程を備えていることを特徴とする薄膜パターンの不良箇所修正方法。

IPC (3)：

G02B 5/20 101 ,  G01N 21/88 ,  G02F 1/13 101