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J-GLOBAL ID：200903004716574440

光加工装置

Inventor： 木村 直樹
Applicant, Patent owner： 古河電気工業株式会社
Agent (1)： 五十嵐 清
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994211791
Publication number (International publication number)：1996052583
Application date： Aug. 12, 1994
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 小型で加工精度が高く、コストの安い光加工装置を提供する。【構成】 サンプル6に照射する光を発射するレーザ3と、レーザ3から発射される光を通過する開口部を有するマスク9と、マスク9の開口部を通過した光を集光する1枚以上のレンズ8とを有する光学系を形成し、この光学系の焦点深度が略0.2 ミクロンとなるようにレーザ3の波長とレンズ8の開口度を設定する。サンプル6を移動して、レンズ8で集光した光の焦点位置をサンプル6の表面側16に位置合わせするサンプル移動機構10を設け、このサンプル移動機構10によりサンプル6を移動させて、サンプル6の表面側16の凸部から徐々に削っていき、表面側16を滑らかに加工する。

Claim (excerpt)：

被加工物に照射する光を発射する光源と、該光源から発射される光を通過する開口部を有するマスクと、該マスクの開口部を通過した光を集光する1枚以上のレンズとを有する光学系を備え、前記マスクと被加工物の少なくとも一方側を移動してレンズで集光した光の焦点位置を被加工物の表面側に位置合わせする移動機構を備え、前記光学系の焦点深度が略1ミクロン以下となるように前記光源の波長と前記レンズの開口度を設定したことを特徴とする光加工装置。

IPC (3)：

B23K 26/06 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/08