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J-GLOBAL ID:200903004725009993

ラップ盤及びラップ加工方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保田 健治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998101083
Publication number (International publication number):1999291156
Application date: Apr. 13, 1998
Publication date: Oct. 26, 1999
Summary:
【要約】【課題】 加圧力の調整が簡単で均一な加圧ができ、さらに一台のラップ盤で種々の目的に併せたラップ加工が可能なラップ盤を提供すること。【解決手段】 上定盤を加圧する加圧軸と該加圧軸を駆動する加圧シリンダからなる加圧装置と、該加圧シリンダを支持する支持台と、支持台をワーク方向に移動させる移動手段と、該加圧軸の移動距離を計測するリニアスケールと、該加圧装置、移動装置を制御する制御装置とを具備し、前記加圧軸と上定盤の連結部に球面軸受けを設けて該上定盤を全方向に回動自在すると共に回動を固定する手段を設けたことを特徴としている。
Claim (excerpt):
上定盤を加圧する加圧軸と該加圧軸を駆動する加圧シリンダからなる加圧装置と、該加圧シリンダを支持する支持台と、該加圧軸の移動距離を計測するリニアスケールと、該加圧装置を制御する制御装置とを具備し、前記加圧軸と上定盤の連結部に球面軸受けを設けて該上定盤を全方向に回動自在としたことを特徴とするラップ盤。
IPC (2):
B24B 37/00 ,  B24B 37/04
FI (2):
B24B 37/00 B ,  B24B 37/04 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • ポリッシング装置の上軸機構
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-079929   Applicant:三菱マテリアル株式会社
  • 特開平3-149179
  • 特開昭57-043738
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