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J-GLOBAL ID：200903004738474911

ポジ型感光性組成物

Inventor： 青合 利明 ,  児玉 邦彦 ,  佐藤 健一郎 ,  上西 一也 ,  山中 司
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996066664
Publication number (International publication number)：1997258435
Application date： Mar. 22, 1996
Publication date： Oct. 03, 1997
Summary：

【要約】【課題】 光感度が高く、優れたレジストパターンが得られ、露光後経時での変化の少ないポジ型感光性組成物を提供できる。【解決手段】 酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂及び活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する特定化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する下記一般式(I)または(II)で表される化合物、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式中、R1 〜R5 は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、又は-S-R6 基を示す。R6 はアルキル基又はアリール基を示す。X- は、R7 -CO-基、R8 -CONH-基、R9 -NHCO-基、R10-OCONH-基、R11-NHCOO-基、R12-NHCONH-基、R13-NHCSNH-基、R14-SO2 NH-基及びニトロ基の群の中から選択される基を少なくとも1個有するベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸又はアントラセンスルホン酸のアニオンを示す。R7 は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。R8 〜R14は各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す。

IPC (5)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C09K 3/00 Z ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R