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J-GLOBAL ID：200903004745682988

X線マスクの製造方法及び製造装置

Inventor： 山部 正樹
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996039374
Publication number (International publication number)：1997232216
Application date： Feb. 27, 1996
Publication date： Sep. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 X線マスク基板上に吸収体膜を形成したものから成るX線マスクの製造方法及び製造装置に関し、吸収体膜の応力を簡易な手段で低減することを目的とする。【解決手段】 吸収体膜の面内における応力分布を測定し、この応力分布に応じて該吸収体膜を局所的にアニールするように構成する。

Claim (excerpt)：

X線マスク基板上に吸収体膜を形成したものから成るX線マスクの製造方法において、吸収体膜の面内における応力分布を測定し、該応力分布に応じて該吸収体膜を局所的にアニールすることを特徴とするX線マスクの製造方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G21K 5/02

FI (3)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G21K 5/02 X