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J-GLOBAL ID：200903004791284679

露光用マスク現像処理方法

Inventor： 賀川 善裕 ,  川合 宣行 ,  中川 邦弘
Applicant, Patent owner： 三菱製紙株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001082333
Publication number (International publication number)：2002278042
Application date： Mar. 22, 2001
Publication date： Sep. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】露光用マスク材料をほぼ鉛直方向に保持し、各処理液の入った処理槽に順次浸漬して処理を進める方法において、露光用マスク材料面の上部と下部との画像特性の不均一を改善する方法を提供することである。【解決手段】露光用マスク材料を概ね鉛直方向に直立するように支持し、液体による処理を連続して行うシステムに於いて、前段の処理液に浸漬してから後段の処理液に浸漬するまでの経過時間が被処理露光用マスク材料表面の部位により異なることを特徴とする露光用マスク現像処理方法。

Claim (excerpt)：

露光用マスク材料を概ね鉛直方向に直立するように支持し、液体による処理を連続して行うシステムに於いて、前段の処理液に浸漬してから後段の処理液に浸漬するまでの経過時間が被処理露光用マスク材料表面の部位により異なることを特徴とする露光用マスク現像処理方法。

IPC (5)：

G03F 1/08 ,  G03C 8/32 ,  G03F 1/12 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30

FI (5)：

G03F 1/08 A ,  G03C 8/32 ,  G03F 1/12 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30

F-Term (10)：

2H095BA11 ,  2H095BB31 ,  2H095BC06 ,  2H096AA00 ,  2H096AA24 ,  2H096BA17 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096GA22 ,  2H096GA24