原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：猪股祥晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001340143
Publication number (International publication number)：2003139891
Application date： Nov. 06, 2001
Publication date： May. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】原子炉冷却水の水質基準および管理目標値に対応した光触媒皮膜を原子炉構造材料面に均一に形成し、原子炉運転中の腐食を低減する。【解決手段】溶液中に含有する光触媒の粒径、濃度、光触媒助剤濃度、分散剤とバインダーの割合、不純物濃度を制御する。光触媒はTiO2で、その皮膜の厚みを0.3μmから2μmに制御する。2μm以上になると酸化チタンにおいて光触媒反応で励起した電子と正孔が再結合反応し、材料の電位は徐々に上昇し、0.3μmを下回ると粒界応力腐食割れ防止を抑制するので望ましくない。

Claim (excerpt)：

原子炉構造材料に光触媒を構成する成分を注入して前記原子炉構造材料に前記光触媒の皮膜を形成する方法において、前記注入する光触媒の粒径、前記光触媒の薬剤に含まれる分散剤、バインダーおよび不純物の割合を規定し、原子炉水への注入の場合には前記原子炉水中での光触媒の濃度を制御するか、または塗布、噴霧法により注入の場合には塗布、噴霧溶液中での光触媒の濃度を制御することを特徴とする原子炉構造材料の光触媒皮膜形成方法。

IPC (9)：

G21D 3/08 GDB , B01J 21/06 , B01J 23/42 , B01J 23/46 311 , B01J 35/02 , B01J 37/02 301 , C23F 11/18 , C23F 15/00 , G21D 1/00

FI (9)：

G21D 3/08 GDB G , B01J 21/06 M , B01J 23/42 M , B01J 23/46 311 M , B01J 35/02 J , B01J 37/02 301 Z , C23F 11/18 , C23F 15/00 , G21D 1/00 X

F-Term (44)：

4G069AA02 , 4G069AA03 , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA21C , 4G069BA48A , 4G069BB01C , 4G069BB02A , 4G069BB02B , 4G069BC70A , 4G069BC71A , 4G069BC71B , 4G069BC72A , 4G069BC75A , 4G069BC75B , 4G069BD01C , 4G069BD06C , 4G069BE08C , 4G069CD10 , 4G069EA07 , 4G069EB15X , 4G069EB15Y , 4G069FA03 , 4G069FA04 , 4G069FB06 , 4G069FB23 , 4G069FB24 , 4G069FB77 , 4G069FC04 , 4G069FC08 , 4K062AA01 , 4K062AA03 , 4K062BA14 , 4K062BA20 , 4K062BB04 , 4K062BB06 , 4K062BB12 , 4K062BC16 , 4K062CA02 , 4K062CA05 , 4K062DA05 , 4K062FA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

原子炉構造材料の光触媒付着方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-098027 Applicant：株式会社東芝
原子炉構造材及び原子炉構造材の腐食低減方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-177512 Applicant：株式会社東芝
原子力発電プラントおよびその運転方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-037130 Applicant：株式会社東芝

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