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J-GLOBAL ID：200903004815020279

ホトマスクおよびその製造方法

Inventor： 北村 芳隆 ,  羽入 勇
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994046691
Publication number (International publication number)：1995261367
Application date： Mar. 17, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ホトマスクに関し、高解像度のパターンが得られるようなホトマスクおよびその製造方法を目的とする。【構成】 透明基板1上にホトレジスト膜の露光光の半透過性膜5と、前記光の位相をシフトさせる位相シフト膜2と、前記露光光の遮光膜3を順次設け、該遮光膜3の開口部4の面積を、半透過性膜5および位相シフト膜2の開口部4の面積より大きくしたことで構成する。

Claim (excerpt)：

透明基板(1) 上にホトレジスト膜の露光光の半透過性膜(5)と、前記光の位相をシフトさせる位相シフト膜(2) と、前記露光光の遮光膜(3)を順次設け、該遮光膜(3) の開口部(4) の面積を、半透過性膜(5) および位相シフト膜(2) の開口部(4) の面積より大きくしたことを特徴とするホトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528