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J-GLOBAL ID:200903004820323360

試作用光ディスクの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 勇
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996240384
Publication number (International publication number):1998092023
Application date: Sep. 11, 1996
Publication date: Apr. 10, 1998
Summary:
【要約】【課題】 試作用の光ディスクを薄型で形成すると共にその変形および裏面反射による露光パターン形成面への悪影響を有効に排除し、これによって新製品の有用性を迅速且つ正確に検討し得る試作用光ディスクの製造方法を提供すること。【解決手段】 薄板ガラス基板1上にフォトレジストを塗布して光ディスク原盤を形成し、次に、この光ディスク原盤のフォトレジストが付された面1Bに所定の露光を付してデータとなるピットを形成するに先立って、当該薄板ガラス基板1と屈折率の近い値を有する液体層4を介して当該薄板ガラス基板1を厚板ガラス基板(ディスクホルダ)5に密着固定し、しかるのち、これを光ディスク露光装置に取り付けて前述した光ディスク原盤に対する露光を行うこと。
Claim (excerpt):
薄板ガラス基板上にフォトレジストを塗布して光ディスク原盤を形成し、この光ディスク原盤のフォトレジストが付された面に所定の露光を付してデータとなるピットを形成するに先立って、前記薄板ガラス基板と屈折率の近い値を有する液体層を介して当該薄板ガラス基板を厚板ガラス基板に密着固定し、しかるのち、これを光ディスク露光装置に取り付けて前記光ディスク原盤に対する露光を行うことを特徴とした試作用光ディスクの製造方法。

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