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J-GLOBAL ID：200903004843361723

洗浄装置

Inventor：
小西 信夫

About 小西 信夫

, 
廣瀬 圭蔵

About 廣瀬 圭蔵

, 
関口 賢治

About 関口 賢治


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 井上 俊夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997363551
Publication number (International publication number)：1999176789
Application date： Dec. 15, 1997
Publication date： Jul. 02, 1999
Summary：
【要約】【課題】 基板例えば半導体ウエハの表面と裏面とを洗浄する場合に、洗浄装置全体の小型化及び洗浄処理時間の短縮を図ること。【解決手段】 ウエハWの周縁部を上側回転体2に形成された上側保持部22と下側回転体3に形成された下側保持部32により上下から押圧して保持すると共に、下側回転体3に下側回転体3の外側に置かれたモ-タ44の回転力をベルト45を介して伝達し、こうして回転体2,3を鉛直な軸のまわりに回転させる。ウエハWの表面及び裏面を洗浄する洗浄ブラシ51,52とウエハWの表面及び裏面に夫々洗浄液を供給するノズル61,62とを設け、ウエハWと洗浄ブラシ51,52とを摺動させることにより、当該ウエハWの両面を同時に洗浄する。この様な装置では従来必要であった2つの洗浄部や反転部が不要となるので、装置全体が小形化されると共に、処理工程も減少するので処理時間が短縮される。
Claim 1：
鉛直な軸のまわりに回転するリング状または筒状の回転体と、洗浄すべき基板の周縁部に沿って設けられ、基板が水平となるように当該基板の周縁部を保持して前記回転体のまわりに回転させる基板保持部と、前記回転体の外側に設けられ、当該回転体に回転力を与える駆動部と、前記基板保持部に保持された基板の表面及び裏面に対して接離自在に構成され、前記基板の表面及び裏面に夫々接触してその面を洗浄する第1の洗浄部材及び第2の洗浄部材と、前記基板保持部に保持された基板の表面及び裏面に洗浄液を供給するための第1の洗浄液供給部及び第2の洗浄液供給部と、を備え、前記第1及び第2の洗浄部材のうち前記回転体側に位置する洗浄部材は、当該回転軸の内部空間を通って基板に対して接離することを特徴とする洗浄装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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