ひび割れ模様付設方法及びそのひび割れ模様付設体

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：永田良昭 , 永田元昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004236904
Publication number (International publication number)：2006056000
Application date： Aug. 17, 2004
Publication date： Mar. 02, 2006
Summary：

【課題】内側被膜層及び外側被膜層の特性に応じて、所望するひび割れ模様を外側被膜層に現出することができるひび割れ模様付設方法及びそのひび割れ模様付設体を提供する。【解決手段】ひび割れ模様付設体1を構成する模様付設体2の表面に、外側被膜層4のみにひび割れ5...を発生させるような特性を有する内側被膜層3をスクリーン印刷して形成し、その内側被膜層3の表面に、外側被膜層4をスクリーン印刷して形成する。内側被膜層3及び外側被膜層4の特性、肉厚、層数に応じて、所望する大きさのひび割れ5...を外側被膜層4に発生させ、外側被膜層4の略全体にひび割れ模様6A,6B,6Cを現出する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

模様付設体の表面に、外側被膜層のみにひび割れを発生させる内側被膜層を形成し、上記内側被膜層の表面に、該内側被膜層に応じた大きさのひび割れを発生させる外側被膜層を形成して、上記内側被膜層及び外側被膜層の特性の違いにより該外側被膜層のみにひび割れを発生させるひび割れ模様付設方法。

IPC (4)：

B41M 3/06 , B32B 33/00 , B41M 1/12 , B44C 3/02

FI (4)：

B41M3/06 Z , B32B33/00 , B41M1/12 , B44C3/02 Z

F-Term (33)：

2H113AA01 , 2H113AA06 , 2H113BA09 , 2H113BA10 , 2H113BB07 , 2H113BB09 , 2H113BC10 , 2H113CA05 , 2H113DA47 , 2H113DA49 , 2H113DA53 , 2H113DA57 , 2H113EA05 , 2H113EA07 , 4F100AK15 , 4F100AK45 , 4F100AT00A , 4F100AT00B , 4F100AT00C , 4F100BA03 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100DC21A , 4F100EH462 , 4F100EJ863 , 4F100GB07 , 4F100GB90 , 4F100HB00A , 4F100HB00B , 4F100HB31 , 4F100JA03 , 4F100JL10A , 4F100JL10B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

被膜形成用エマルション組成物及びその組成物から得られた被膜、並びにそれらの製造方法、及びこれらによる表面処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-284127 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Cited by examiner (1)

特開平2-203968

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