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J-GLOBAL ID：200903004847820528

陰イオン製造方法及びそれを用いる空気清浄方法並びにそれらの装置

Inventor： 天田 米四郎
Applicant, Patent owner： 株式会社泉研究所
Agent (1)： 唐木 浄治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991194482
Publication number (International publication number)：1993031198
Application date： Aug. 02, 1991
Publication date： Feb. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 陰イオンを必要最小限のスペース及び動力で大量に発生させる。【構成】 風道7内の一壁面8からその対向壁面9に1以上の水噴流を衝突させて微細水滴を発生させ、同時に前記風道7内に風速0.5 〜50m/sec で空気を通して微細水滴混合空気とし、そのあと微細水滴混合空気を分離器4に通すことで、超微細水滴混合空気となし、1m3 中に陰イオンを1.25×109 以上発生させる。

Claim (excerpt)：

風道内の一壁面からその対向壁面に1以上の水噴流を衝突させて微細水滴を発生させ、同時に前記風道内に風速0.5 〜50m/secで空気を通して微細水滴混合空気とし、そのあと微細水滴混合空気を分離器に通して少なくとも粒径1μmより大きな微細水滴を分離して超微細水滴混合空気となし、該超微細水滴混合空気1m3 中に陰イオンを1.25×109 以上発生させるようにしたことを特徴とする陰イオン製造方法。

IPC (3)：

A61N 1/44 ,  A61L 9/22 ,  A61M 15/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭62-068516
  
• 特開昭63-077815
  
• 特開平3-030811
  
• 特公昭48-010914
  
• 特公平5-058755