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J-GLOBAL ID：200903004856126103

記録媒体の製造方法、記録媒体製造用原盤の製造方法、記録媒体の製造装置、および記録媒体製造用原盤の製造装置

Inventor：
木島 公一朗

About 木島 公一朗


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000051957
Publication number (International publication number)：2001243663
Application date： Feb. 28, 2000
Publication date： Sep. 07, 2001
Summary：
【要約】【課題】 記録媒体および記録媒体製造用原盤の製造過程で、これら記録媒体および記録媒体製造用原盤を構成する基板上に形成した材料層に、レーザ光を、記録パターンに応じて照射する工程を有する場合において、このレーザ光のフォーカシング制御を容易、確実に行うことができるようにする。【解決手段】 記録媒体の製造過程で、この記録媒体を構成する基板11上に形成した材料層12に、レーザ光を、記録パターンに応じて照射する工程を有する記録媒体の製造方法にあって、その材料層12が、レーザ光13に対して所要の反射率を呈してこのレーザ光13に戻り光を生じさせ、この戻り光の検出によって照射レーザ光の、材料層に対するスポットのフォーカス調整を行うものである。
Claim (excerpt)：
記録媒体の製造過程で、該記録媒体を構成する基板上に形成した材料層に、レーザ光を、記録パターンに応じて照射する工程を有する記録媒体の製造方法にあって、上記材料層が、上記レーザ光に対し所要の反射率を呈して該レーザ光の戻り光を生じさせ、該戻り光を検出することにより、上記レーザ光の上記材料層に対するスポットのフォーカス調整を行うようにしたことを特徴とする記録媒体の製造方法。
IPC (5)：
G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 531 ,  G03F 7/32 ,  G11B 7/09
FI (5)：
G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 531 ,  G03F 7/32 ,  G11B 7/09 B
F-Term (41)：
2H096AA27 ,  2H096BA20 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096JA04 ,  5D118AA03 ,  5D118BA01 ,  5D118BB09 ,  5D118BF03 ,  5D118CA11 ,  5D118CC05 ,  5D118CC12 ,  5D118CD02 ,  5D118CF05 ,  5D118CG02 ,  5D118DA06 ,  5D118DA43 ,  5D118DB04 ,  5D118DB12 ,  5D118DC03 ,  5D121AA01 ,  5D121AA02 ,  5D121AA04 ,  5D121BA01 ,  5D121BB11 ,  5D121BB21 ,  5D121BB28 ,  5D121BB31 ,  5D121BB38 ,  5D121CA03 ,  5D121CA07 ,  5D121CB03 ,  5D121CB08 ,  5D121CB09 ,  5D121DD07 ,  5D121DD11 ,  5D121DD17 ,  5D121EE20 ,  5D121EE27 ,  5D121GG04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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