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J-GLOBAL ID：200903004859527010

基板処理装置

Inventor： 杉本 賢司 ,  前川 直嗣
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995165379
Publication number (International publication number)：1997010709
Application date： Jun. 30, 1995
Publication date： Jan. 14, 1997
Summary：

【要約】【目的】 一様な薬液の吐出を可能にし、汚染が生じにくい基板処理装置を提供すること。【構成】 処理槽4は、処理槽本体を構成する容器部分41と、容器部分41の底部に対向して設けられた一対の処理液吐出ノズル43、44とを備え、両者はともにPEEK材で形成されている。したがって、基板処理のための薬液として例えば希フッ酸を用いて基板表面の酸化膜をエッチングする場合などにおいて、薬液によって処理槽4の内壁面や処理液吐出ノズル43、44が侵食されることを有効に防止することができる。よって、基板処理に際して汚染が生じにくく、常に一様な処理液の吐出が可能になる。しかも、処理槽4を樹脂材で形成することにより、簡易に精度良く処理槽4を作製することが可能になる。

Claim (excerpt)：

薬液を収容する処理槽中に基板を支持することにより、当該基板に薬液処理を施す基板処理装置において、前記処理槽が樹脂材で形成されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2)：

B08B 3/04 ,  H01L 21/304 341

FI (2)：

B08B 3/04 Z ,  H01L 21/304 341 T