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J-GLOBAL ID：200903004889271125

磁気ディスク用基板の製造方法

Inventor： 横山 正孝 ,  茂 智雄
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999177996
Publication number (International publication number)：2001006162
Application date： Jun. 24, 1999
Publication date： Jan. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】 磁気ヘッドのヘツドクラッシュの発生をなくすと共にその浮上性にも優れた磁気ディスクを得ることができる、表面平滑性に優れた磁気ディスク用基板の製造方法を提供する。【解決手段】 磁気ディスク用基板を製造するにおいて、二酸化珪素の水性分散液により二酸化珪素を砥粒としてテクスチァ加工を行う磁気ディスク用基板の製造方法。

Claim (excerpt)：

磁気ディスク用基板を製造するにおいて、二酸化珪素の水性分散液により二酸化珪素を砥粒としてテクスチァ加工を行うことを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。

IPC (4)：

G11B 5/84 ,  B24B 21/00 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550

FI (4)：

G11B 5/84 A ,  B24B 21/00 B ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D

F-Term (15)：

3C058AA05 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA04 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06 ,  5D112GA02 ,  5D112GA09 ,  5D112GA13 ,  5D112GA14 ,  5D112GA30