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J-GLOBAL ID：200903004899242751

エキシマレーザー用ミラー及びその製造方法

Inventor： 大山口 まき子 ,  笹川 孝市 ,  川又 克英
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994038574
Publication number (International publication number)：1995248408
Application date： Mar. 09, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、圧力勾配型プラズマ生成手段から発生したプラズマを用いたアーク放電型イオンプレーティングにより、耐エキシマレーザ性が良好なエキシマ用ミラーを効率良く製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 紫外波長域で吸収の少ない高屈折率物質(Al2O3 )からなる第1の層と紫外波長域で吸収の少ない低屈折率物質(SiO2)からなる第2の層とが交互に積層された多層構造のエキシマレーザ用ミラーを製造する方法において、前記第1又は第2の各層の形成過程が、所定の圧力に設定された第1の真空空間中でアーク放電によりプラズマを生成する工程、形成する膜に対応した蒸発物(Al、Si)を、前記第1の真空空間よりも低い圧力(8 ×10-4Torr以下)に設定される第2の真空空間中に設置する工程、前記第2の真空空間に設置された前記蒸発物に前記プラズマを照射し、該第2の真空空間中で反応ガス(O2)を導入しながら前記第1の層又は第2の層を形成する工程、からなることを特徴とする製造方法。

Claim (excerpt)：

紫外波長域で吸収の少ない高屈折率物質からなる第1の層と紫外波長域で吸収の少ない低屈折率物質からなる第2の層とが交互に積層された多層構造のエキシマレーザ用ミラーを製造する方法において、前記第1および第2の各層の形成過程が、(イ)所定の圧力に設定された第1の真空空間中でアーク放電によりプラズマを生成する工程、(ロ)形成する膜に対応した蒸発物を、前記第1の真空空間よりも低い圧力に設定された第2の真空空間中に設置する工程、(ハ)前記第2の真空空間中に設置された前記蒸発物に前記プラズマを照射し、該第2の真空空間中で反応ガスを導入しながら、前記第1の層または第2の層を形成する工程、からなることを特徴とするエキシマレーザ用ミラーの製造方法。